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當(dāng)前位置:首頁產(chǎn)品中心冷熱臺HEMADE MC12晶圓加熱盤

HEMADE MC12晶圓加熱盤
產(chǎn)品簡介

HEMADE MC12晶圓加熱盤擁有寬泛的溫度測試范圍,緊湊的卡盤設(shè)計和穩(wěn)定的溫度控制系統(tǒng)。我們提供多種定制服務(wù),根據(jù)客戶的實(shí)驗(yàn)需求對諸如平面度,溫度范圍,升降溫速率等各種參數(shù)進(jìn)行調(diào)整。

產(chǎn)品型號:
更新時間:2025-09-08
廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
訪問量:709
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HEMADE MC12晶圓加熱盤擁有寬泛的溫度測試范圍,緊湊的卡盤設(shè)計和穩(wěn)定的溫度控制系統(tǒng)。我們提供多種定制服務(wù),根據(jù)客戶的實(shí)驗(yàn)需求對諸如平面度,溫度范圍,升降溫速率等各種參數(shù)進(jìn)行調(diào)整。

HEMADE MC12晶圓加熱盤我們也可以按照客戶的需求定制不同尺寸的溫控臺面和樣品夾具。

 產(chǎn)品參數(shù):

1.溫度范圍: -50℃~300℃(可定制)

2.加熱區(qū): 12寸(4寸,6寸,8寸)

3.最大升溫速率: 10℃/min

4.溫控精度: 0.1℃

5.溫度均勻性: 30~200℃ < ±2℃,200~300℃ < ±1%(φ300mm 均勻度面積)

型號

MC12

溫控模塊

溫控范圍

-50°C~300°C*

 

加熱區(qū)

12寸(4寸,6寸,8寸)*

 

最大升溫速率

0-10℃/min*

 

溫控精度:

0.1°C

 

溫度均勻性:

30~200℃ < ±2℃,200~300℃ < ±1%(φ300mm 均勻度面積)

基本配置

晶圓加熱盤x1、溫控系統(tǒng)x1、循環(huán)水系統(tǒng)x1、溫控軟件

選配

其他定制

備注

以上為默認(rèn)參數(shù)  * 為可定制項(xiàng)

其他可選型號

按需求進(jìn)行配置

 

 


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